全电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射***于基体材料的镀膜,就可以增加光学表面的反射率。简单的多层反射膜是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长的四分之一。在这种条件下,参加叠加的各界面上的反射光矢量,振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加。
原则上说,全电介质反射膜的反射率可以***接近于1,但是薄膜的散射、吸收损耗限制了薄膜反射率的提高。迄今为止,优质激光反射膜的反射率虽然已超过99.9%,但有一些工作还要求它的反射率继续提高。应用于强激光系统的反射膜,杯子渐变加工价格,则更强调它的抗激光强度,围绕提高这类薄膜的抗激光强度所开展的工作,使这类薄膜的研究更加深入。
光学镀膜由薄的分层介质构成的,经过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的使用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。
吸收介质:能够是法向均匀的,也能够是法向不均匀的,实际使用的薄膜要比抱负薄膜复杂得多,这是因为,制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射,膜层之间的相互渗透形成扩散界面,因为膜层的成长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时刻效应。